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更新時(shí)間：2024-10-22
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廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家
產(chǎn)品特點(diǎn)：低溫冷卻循環(huán)器泵廣泛用于各種實(shí)驗(yàn)研究用儀器及工業(yè)生產(chǎn)用設(shè)備發(fā)熱部的冷卻恒溫作用分析儀器：原子吸收講故事、質(zhì)譜儀合作、旋光儀技術先進。醫(yī)療設(shè)備：降溫毯規模設備。工業(yè)設(shè)備及激光設(shè)備： 生物制藥製度保障』A？茖W(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)備：分子泵旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀日漸深入、蒸餾器、發(fā)酵裝置引領作用、激光器預期、金屬快速成型裝置、真空鍍膜機(jī)。
低溫冷卻循環(huán)器泵廣泛用于各種實(shí)驗(yàn)研究用儀器及工業(yè)生產(chǎn)用設(shè)備發(fā)熱部的冷卻恒溫作用分析儀器：原子吸收加強宣傳、質(zhì)譜儀、旋光儀對外開放。醫(yī)療設(shè)備：降溫毯先進水平。工業(yè)設(shè)備及激光設(shè)備： 生物制藥〕浞职l揮？茖W(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)備：分子泵旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀共享、蒸餾器高端化、發(fā)酵裝置、激光器姿勢、金屬快速成型裝置充分發揮、真空鍍膜機(jī)。
半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：?jiǎn)尉磧艮D(zhuǎn)載重要平臺、印刷機(jī)相互融合、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置全面闡釋、離子鍍裝置用上了、蝕刻裝置、單晶片處理裝置適應性強、切片機(jī)的特性、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理能力建設、露光裝置高效、生磁部分的加熱裝置等。對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工基礎、熔接機(jī)的發(fā)熱部分領域、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置要素配置改革、二氧化碳激光加工機(jī)等。
低溫冷卻循環(huán)器泵技術(shù)參數(shù)：
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型號(hào) | ℃ 溫度范圍 | L/min bar 循環(huán)泵 | 電源 | （kw） at （℃） 制冷量 | 加注冷媒 | |||
| -20 | -35 | -55 | ||||||
| DW-418 | —40～30 | 20 | 0.7 | 220/380V 50/60HZ | 1.2 | 0.4 |
| R404A R407C
|
| DW-440 | —40～30 | 20 | 0.7 | 2.7 | 0.75 |
| ||
| DW-462 | —40～30 | 35 | 1 | 3.8 | 1.1 |
| ||
| DW-490 | —40～30 | 35 | 1 | 5.5 | 1.5 |
| ||
| DW-4A1 | —40～30 | 35 | 1 | 7 | 2.1 |
| ||
| DW-4A2 | —40～30 | 80 | 1.5 | 14 | 4 |
| ||
| DW-618 | —60～—20 | 20 | 0.7 |
| 0.6 | 0.4 | R404A R23 R13 | |
| DW-630 | —60～—20 | 20 | 0.7 |
| 1.1 | 0.6 | ||
| DW-662 | —60～—20 | 35 | 1 |
| 2 | 1.15 | ||
| DW-6A1 | —60～—20 | 35 | 1 |
| 3.5 | 2 | ||
| DW-6A2 | —60～—20 | 75 | 1.5 |
|
| 13 | 5., 8 | |
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